Die gegenwärtigen Industrieprozesse stellen hohe Anforderungen an die optische Messtechnik. Neben der zunehmenden Geschwindigkeit und der einfachen Integration in den Prozess stellen raue Bedingungen einen zusätzlichen Schwierigkeitsgrad dar. Sie verlangen spezielle Entwicklungen mit Blick auf die jeweiligen Herausforderungen der verschiedenen Bereiche. Micro-Epsilon